武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

查询公开资料获悉，太紫微公司成立于 2024 年 5 月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

太紫微公司企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“以原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始，我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的 KrF 与 ArF 光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。”